氧化铈的硬度仅为6（二氧化硅为7、氧化铝为9），仅从机械角度来看，以低硬度的氧化铈去抛光基于二氧化硅的材料，如硅酸盐玻璃、石英玻璃等，是不具备技术可行性的，但目前氧化铈抛光粉是抛光基于二氧化硅甚至氮化硅材料的首选抛光粉。可见氧化铈抛光粉还具有除机械作用之外的其他作用。
       CeO₂质地较软，能明显降低对抛光工件表面的划伤，且CeO₂中变价离子Ce⁴⁺/Ce³⁺的转换能提高CeO₂与抛光工件之间的化学反应活性，显著提高抛光速率。在CeO₂晶格中通常会出现氧空位使其理化性能发生变化，一般认为CeO₂可以与抛光工件表面形成Ce-O-Si化学键，并随着抛光工件Ce-O-Si键的断裂对抛光工件进行抛光，化学机械抛光速率同时受
Ce-O-Si键形成速率及其抛光工件内部Ce-O-Si断裂速率的双重影响。
       氧化铈抛光的目的是去除工件表面产生的凹凸层及裂纹层，使工件表面透明光滑，达到规定的表面等级，并精确的修正表面的几何形状，达到规定的面形精度。在抛光的初始阶段，是CeO₂去除玻璃表面凹凸层的过程，使玻璃露出新鲜的表面，同时由于硅酸盐玻璃的主要组分为SiO₂，其余成分为碱金属氧化物，它们在抛光过程中会发生水解，在玻璃表面产生含水的硅胶层、硅胶凝胶层，使得玻璃表面软化，容易被去除。

合理选择抛光液，能使加工出来的工件表面光亮美观，色泽鲜艳，光亮夺目，还可以防止工件的锈蚀，保持与提高工件表面的光泽，起到清洁工件与磨具的作用。去除油污，软化工件表面以加速磨消，减少磨具对工件的冲击，改善工件条件。抛光液的种类很多，应根据加工条件来选择。它具有无毒，无腐蚀，不易变质等性能，在光整效率，工作的研磨质量，抛光的光洁度等方面，都显示出其独特的效果。
       氧化铝抛光液的酸碱度就是抛光液的pH值，当抛光液的pH值为9.6时，抛光液的机械作用远大于化学作用，去除速率比较大，这也导致抛光后抛光片表面产生高损伤层，粗糙度比较大。
       当抛光液的pH值增大为10.84～11.34时，机械作用和化学作用达到一种对等状态时，此时化学作用的均匀性好，使得表面张力小，质量处理的一致性好，可以得到良好的表面抛光效果。
       当pH值大于11.67时，SiO₂水溶胶在强碱的作用下，生成易溶于水的硅酸，使得硅溶胶中的SiO₂颗粒不能起到磨削作用，变成透明的液体，此时机械作用基本失效，抛光以化学作用为主，表面蚀坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

 一般来说，粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越适合于较硬的材料，要注意的是，所有的抛光粉的颗粒度都有一个分布问题，平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必须控制抛光粉的最大颗粒。普通抛光粉之所以存在划伤，就是有大颗粒的原因。所以一般选择粒径分布范围窄的纳米抛光粉。抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度，浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时，浆料浓度因适当调低以得到合适的流动性，一般建议在7-10%。此外，氧化铝的形貌也是影响抛光效果的一个重要因素：
①当料浆中采用的氧化铝为球形（尤其为超细粉）时，去除率高，抛光速度快，抛光面不易产生细微划痕，光洁度高，可用于半导体单晶、石英晶体和精密光学器件等高精尖产品的加工。
②当料浆中使用的是片状氧化铝时，由于其具有良好的分散稳定性和平行排列性，可使片状氧化铝的上下表面基本平行于被抛光材料的表面，最大限度地避免了材料表面下的损伤，使抛光后的表面平滑如镜，可用于陶瓷的抛光和光学显微镜之类的玻璃表面的抛光。 

1、Na₂O影响α-Al₂O₃相变Na₂O在高温下（1400℃以上）煅烧时与Al₂O₃反应形成高铝酸纳Na₂O·11Al₂O₃，又称β-Al₂O₃，在高温下他的结构是稳定的，将与α-Al₂O₃共存，在煅烧过程中它大大降α-Al₂O₃的转化速度及转化率，同时也会将氧化铝的晶粒变粗，比表面积减少，晶形也不规则。
2、Na₂O影响制品的机械强度和导电性。在耐磨制品及陶瓷应用领域，氧化钠对氧化铝制品的机械强度和导电性有很大影响。一般情况下，Na₂O的含量越高，导电率也就越高，氧化铝陶瓷及耐磨制品的电绝缘性能越差、机械强度也会降低。

1）在军用领域——用于飞机涡轮叶片、轴等精密铸造机件、军械、各种弹簧齿轮液压件的表面强化处理，消除内应力。
2）在民用领域——用于钛合金和不锈钢加工件及制品（不锈钢餐具、厨房用具）、纺织机械零部件、冲锻压磨具、机压磨具、医疗器械等各种金属制品的工具清理，表面精整和表面预处理，除氧化皮、除锈、去毛刺、强化、抛光处理。玻璃加工、轮胎制造业及塑料成型等工磨具的清理。